先进设计系统（ADS）统计设计套件为设计人员提供了优化、灵敏度分析、良率、良率优化（也称为中心设计）、实验设计（DOE）和良率灵敏度直方图。这些工具结合起来，可以为设计师提供更强大的设计洞察力，有助于消除制造工艺变化导致的意外情况，并最大限度地提高产品良率。

强大的数据显示命令支持您创建许多实用的统计图和直方图。

产品特点

  • 自动归一化灵敏度分析输出结果。同一设计中不同类型的指定元器件的输出灵敏度可以相对于彼此归一化。这有助于即时而精确地判定设计的元器件灵敏度，设计中可以包含各类元器件，每类元器件都可以有不同的取值范围（如千欧、皮法、微米等）
  • 最终分析参数支持用户在完成优化后运行另外的分析。这一便利的功能使您可以在电路优化完成后轻松安排分析顺序
  • 在生产前分析并优化制造良率
  • 允许设计人员对不可避免的元器件变化进行补偿
  • 为设计人员提供关于设计稳健性的清晰见解，识别必须加以控制的问题元器件以提高生产良率
  • 对采用可调整元素的设计的生产良率进行分析和预测，以便在生产后做出调整
  • 提供强大的数据显示功能，可以创建易于查看的统计良率绘图和灵敏度直方图，并提供后期处理分析和自动更新功能
  • 提供增强型优化输出控制器，允许设计人员通过扫描或对设计优化步骤进行编程，轻松创建并优化复杂的电路
  • 包括灵敏度分析和完整的实验设计（DOE）套件，内含各种支持绘图，为设计人员提供完整的设计洞察力
  • 允许设计人员针对各种类型的分布执行失配模型和相关性分析，包括在射频集成电路设计中大量采用的对数正态分布

统计设计套件可为设计师提供强大的解决方案，帮助他们克服设计产品、实现高效生产时面临的挑战。对于小批量生产，此套件可以确保产品稳健可靠。对于大批量生产应用，此套件有助于提高良率并降低成本。

此套件为设计人员提供了一个新的设计流程，使他们得以充分利用自动优化、良率分析、良率优化（也称为中心设计）、灵敏度分析以及下文介绍的许多其他高级统计工具的优势。

统计设计套件整合在 W2200 ADS 内核环境中。了解关于 ADS 内核模块的更多信息。