Menlo Micro选用是德科技PathWave 软件,以缩短新型射频微机电开关的设计周期
SANTA ROSA, Calif. July 15, 2021
是德科技公司(Keysight Technologies, Inc.,纽约证券交易所代码:KEYS)是一家领先的技术公司,致力于提供进阶 设计与验证解决方案,以加速创新,助力世界互联互通并保障安全。该公司宣布,Menlo Micro已选定其PathWave 进阶 设计系统(ADS)和电磁(EM)设计软件,用于推动材料科学领域的创新,并开发高性能微机电系统(MEMS)开关。
在开发其新款 MM5130(一款超低损耗射频(RF)SP4T 开关)的过程中,Menlo Micro 需要解决客户在精准的 3D 电磁仿真以及集成设计、测试和测量工作流方面面临的挑战,以满足最高 26 GHz 的高功率开关应用需求。考虑到产品上市时间,Menlo 将设计周期定为三到四个月。
Menlo Micro希望在开发过程的早期阶段就验证其新款MM5130开关的性能,因此选择将自有的PCB去嵌入算法集成到是德科技(Keysight)的PathWave ADS软件中。“在选择设计工具时,我们需要考虑从原理图到3D仿真的整个流程,”Menlo Micro技术总监徐竹博士表示。 “我们的工程师需要熟悉这些工具,这也是我们选择以是德科技的PathWave 进阶 设计系统作为核心工具的原因之一。”
Menlo 选择了是德科技的 EM Design 软件,其中包括 EMPro 以及 RFPro,并将其集成到PathWave (ADS)平台中,为工程团队打造了一个熟悉的设计环境。由于工程师们需要不断在PathWave (ADS)中更改和调整布局,因此从电路布局到3D电磁仿真的顺畅工作流程至关重要。
是德科技的EMPro 和RFPro 帮助Menlo实现了从2D布局到3D模型文件的无缝转换。是德科技的RFPro 凭借SmartMount和网格域优化技术,解决了网格优化的难题。Menlo Micro的设计流程包含多家供应商的工具,因此互操作性至关重要。
因此,Menlo Micro 成功将其新型 MEMS 开关的设计周期缩短了 65%,且测量结果与仿真结果高度吻合。此前同等规模的项目可能需要长达九个月的时间。在将关键指标与其他替代方案进行对比时,Menlo Micro 证实其创新技术在功率密度(SP4T 25 W 功率处理能力)、射频插入损耗、线性度以及超低功耗方面均实现了显著提升。
“Menlo Micro 设计了一个由多种几何结构组成的复杂、多技术模块,涵盖了从微米级 MEMS 到毫米级 PCB 的广泛范围,”是德科技PathWave 设计业务总经理 Tom Lillig 表示。“借助是德科技快速、高容量的 3D 电磁电路仿真器,他们一次就成功完成了该模块的实现。”
Menlo 还制作了器件原型,并通过晶圆探针测试进行了测量,结果证明首次制造即获成功。随后,其工程团队使用是德科技的矢量网络分析仪(VNA)进行了测量,将仿真结果与实际去嵌入器件的测量结果进行对比,以此向客户证明该方案的可行性。
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